RéférenceAnnexe de l'arrêté du 27 mars 2025 (version du 31 mars 2025)Légifrance →
1. 3B901.l. Masques et réticules pour la lithographie par ‘rayonnement ultraviolet extrême' (‘EUV'), conçus pour les circuits intégrés, non visés au paragraphe 3B001.g de l'annexe I du « règlement européen de contrôle des exportations des biens à double usage », et comportant un masque de « substrat brut » spécifié par l'alinéa 3B001.j de l'annexe I du « règlement européen de contrôle des exportations des biens à double usage ».
2. Notes techniques :
3. 1. Le ‘rayonnement ultraviolet extrême' (‘EUV') correspond à un spectre électromagnétique dont les longueurs d'onde sont supérieures à 5 nm et inférieures à 124 nm.
4. 2. Aux fins de l'alinéa 3B901.l, les masques sur lesquels une pellicule est déposée sont considérés comme masques et réticules.
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