À l'annexe VII du règlement (CE) n° 833/2014, la catégorie suivante est ajoutée:
"Catégorie VIII – Divers
X.A.VIII.001 Équipements pour l'exploration ou la production de pétrole, comme suit:
a. équipements de mesure intégrés à la tête de forage, y compris les systèmes de navigation à inertie pour la mesure en cours de forage (MWD);
b. systèmes de surveillance des gaz et leurs détecteurs, conçus pour un fonctionnement continu et pour la détection du sulfure d'hydrogène;
c. équipements pour les mesures sismologiques, y compris la sismique réflexion et les vibrateurs sismiques;
d. échosondeurs de sédiments.
X.A.VIII.002 Équipements, "ensembles électroniques" et composants spécialement conçus pour les ordinateurs quantiques, l'électronique quantique, les capteurs quantiques, les unités de traitement quantique, les circuits qubits, les dispositifs qubits ou les systèmes radars quantiques, y compris les cellules de Pockels.
Note 1: Les ordinateurs quantiques effectuent des calculs qui exploitent les propriétés collectives des états quantiques, tels que la superposition, l'interférence et l'enchevêtrement.
Note 2: Les unités, circuits et dispositifs comprennent, sans s'y limiter, les circuits supraconducteurs, le recuit quantique, le piège ionique, l'interaction photonique, le silicium/spin, les atomes froids.
X.A.VIII.003 Microscopes et matériel connexe et détecteurs, comme suit:
a. microscopes à balayage à force atomique (SEM);
b. microscopes Auger à balayage;
c. microscopes électroniques à transmission (TEM);
d. microscopes à force atomique (AFM);
e. microscopes à balayage à force atomique (SFM);
f. matériels et détecteurs, spécialement conçus pour être utilisés avec les microscopes visés aux points X.A.VIII.003.a à X.A.VIII.0003.e, utilisant l'une des techniques d'analyse de matériaux suivantes:
1. spectroscopie photoélectronique par rayons X (XPS);
2. spectroscopie X à dispersion d'énergie (EDX, EDS); ou
3. spectroscopie électronique pour analyse chimique (ESCA).
X.A.VIII.004 Équipements pour l'extraction de minerais de métaux dans les grands fonds marins
X.A.VIII.005 Équipements de fabrication et machines-outils, comme suit:
a. équipements de fabrication additive pour la "production" de parties métalliques;
Note: Le point X.A.VIII.005.a ne comprend que les systèmes suivants:
1. systèmes sur lit de poudres utilisant la fusion laser sélective (SLM), le lasercusing, le frittage laser direct de métal (DMLS) ou la fusion par faisceaux d'électrons (EBM), ou
2. systèmes à source de matière poudreuse utilisant le placage au laser, le dépôt d'énergie directe ou le dépôt de métal par laser.
b. équipements de fabrication additive pour "matières énergétiques", y compris les équipements utilisant l'extrusion par ultrasons;
c. équipements de fabrication additive par photopolymérisation en cuve (VVP) utilisant la stéréolithographie (SLA) ou le traitement numérique de la lumière (DLP).
X.A.VIII.006 Équipements pour la "production" d'électronique imprimée pour diodes électroluminescentes organiques (OLED), transistors organiques à effet de champ (OFET) ou cellules photovoltaïques organiques (OPVC).
X.A.VIII.007 Équipements pour la "production" de systèmes microélectromécaniques (MEMS) utilisant les propriétés mécaniques du silicium, y compris les membranes de pression, les faisceaux de flexion ou les dispositifs de microajustement.
X.A.VIII.008 Équipements spécialement conçus pour la production de carburants de synthèse (électrocarburants, carburants synthétiques) ou de piles solaires à haut rendement (rendement > 30 %).
X.A.VIII.009 Équipements à ultravide (UHV), comme suit:
a. pompes UHV (à sublimation, turbomoléculaire, à diffusion, cryogénique, ionique);
b. manomètres UHV.
Note: UHV signifie une pression de 100 nanopascals (nPa), ou inférieure.
X.A.VIII.010 'Systèmes de réfrigération cryogéniques' conçus pour maintenir des températures inférieures à 1,1 K pendant 48 heures ou plus et équipements de réfrigération cryogénique connexes, comme suit:
a. tubes à impulsions;
b. cryostats;
c. dewars;
d. Gas Handling System (GHS);
e. compresseurs;
f. modules de commande.
Note: Les "systèmes de réfrigération cryogéniques" comprennent, entre autres, la réfrigération par dilution, les réfrigérateurs adiabatiques et les systèmes de refroidissement laser.
X.A.VIII.011 Équipements de "décapsulation" pour dispositifs à semi-conducteurs
Note: On entend par "décapsulation" l'élimination d'un capuchon, d'un couvercle ou d'un matériau encapsulant d'un circuit intégré emballé par des moyens mécaniques, thermiques ou chimiques.
X.A.VIII.012 Photodétecteurs à haute efficacité quantique (QE) ayant une QE supérieure à 80 % dans la gamme de longueurs d'onde dépassant 400 nm mais ne dépassant pas 1 600 nm.
X.A.VIII.013 Machines-outils à commande numérique ayant un ou plusieurs axes linéaires avec une longueur de déplacement supérieure à 8 000 mm.
X.C.VIII.001 Poudres de métaux et poudres d'alliages métalliques pouvant être utilisées dans l'un des systèmes énumérés au point X.A.VIII.005.a.
X.C.VIII.002 Matériaux avancés, comme suit:
a. matériaux pour le masquage ou le camouflage adaptatif;
b. métamatériaux, ayant par exemple un indice de réfraction négatif;
c. non utilisé;
d. alliages à haute entropie (HEA);
e. composés d'Heusler;
f. matériaux de Kitaev, y compris les liquides de Kitaev.
X.C.VIII.003 Polymères conjugués (conducteurs, semi-conducteurs, électroluminescents) pour l'électronique imprimée ou organique.
X.C.VIII.004 Matières énergétiques, comme suit, et leurs mélanges:
a. picrate d'ammonium (CAS 131-74-8);
b. poudre noire;
c. hexanitrodiphénylamine (CAS 131-73-7);
d. difluoroamine (CAS 10405-27-3);
e. nitroamidon (CAS 9056-38-6);
f. non utilisé;
g. tétranitronaphtalène;
h. trinitroanisole;
i. trinitronaphtalène;
j. trinitroxylène;
k. N-pyrrolidinone; 1-méthyl-2-pyrrolidinone (CAS 872-50-4);
l. maléate de dioctyle (CAS 142-16-5);
m. acrylate d'éthylhexyle (CAS 103-11-7);
n. triéthyl-aluminium (TEA) (CAS 97-93-8), triméthyl-aluminium (TMA) (CAS 75-24-1) et autres alkyles et aryles métalliques pyrophoriques de lithium, de sodium, de magnésium, de zinc ou de bore;
o. nitrocellulose (CAS 9004-70-0);
p. nitroglycérine (ou trinitrate de glycérol, trinitroglycérine) (NG) (CAS 55-63-0);
q. 2,4,6-trinitrotoluène (TNT) (CAS 118-96-7);
r. dinitrate d'éthylènediamine (EDDN) (CAS 20829-66-7);
s. tétranitrate de pentaérythritol (PETN) (CAS 78-11-5);
t. azide de plomb (CAS 13424-46-9), styphnate de plomb normal (CAS 15245-44-0) et styphnate de plomb basique (CAS 12403-82-6), et explosifs primaires ou compositions d'amorçage contenant des azides ou des complexes d'azides;
u. non utilisé;
v. non utilisé;
w. diéthyldiphénylurée (CAS 85-98-3); diméthyldiphénylurée (CAS 611-92-7); méthyléthyldiphénylurée;
x. N,N-diphénylurée (diphénylurée asymétrique) (CAS 603-54-3);
y. méthyle-N,N-diphénylurée (méthyl-diphénylurée asymétrique) (CAS 13114-72-2);
z. éthyle-N,N-diphénylurée (éthyl-diphénylurée asymétrique) (CAS 64544-71-4);
aa. non utilisé;
bb. 4-nitrodiphénylamine (4-NDPA) (CAS 836-30-6);
cc. 2,2-dinitropropanol (CAS 918-52-5);
dd. non utilisé.
X.D.VIII.001 Logiciels spécialement conçus pour le "développement", la "production" ou l'"utilisation" des équipements visés aux points X.A.VIII.005 à X.A.VIII.0013.
X.D.VIII.002 Logiciels spécialement conçus pour le "développement", la "production" ou l'"utilisation" des équipements, des "ensembles électroniques" ou des composants visés au paragraphe X.A.VIII.002.
X.D.VIII.003 Logiciels pour jumeaux numériques de produits de fabrication additive ou pour la détermination de la fiabilité des produits de fabrication additive.
X.E.VIII.001 Technologies pour le "développement", la "production" ou l'"utilisation" des équipements visés aux points X.A.VIII.001 à X.A.VIII.0013.
X.E.VIII.002 Technologies pour le "développement", la "production" ou l'"utilisation" des matériaux visés aux points X.C.VIII.002 ou X.C.VIII.003.
X.E.VIII.003 Technologies pour jumeaux numériques de produits de fabrication additive ou pour la détermination de la fiabilité des produits de fabrication additive.
X.E.VIII.004 Technologies pour le "développement", la "production" ou l'"utilisation" des logiciels visés aux points X.D.VIII.001 à X.D.VIII.002.".